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坩埚工艺之喷涂

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坩埚工艺之喷涂

      坩埚喷涂是利用不同于其它喷涂技术和方法,坩埚喷涂是涂装坩埚通过加热使其液态混合物(氮化硅)迅速附着在坩埚表面。涂装坩埚的方法可分为加热喷涂与滚涂两种方法涂覆工艺,滚涂涂装其技术工艺简单,涂装涂层不均,时间长,氮化硅使用量大,成本高,所以公司现使用的是较先进工艺热喷涂技术。
      就目前的石墨坩埚而言,加热喷涂技术是将配制好的硅液涂料用净化的压缩空气进行喷涂,喷枪压力为20psi~40psi,喷涂距离为25~30厘米,定位着落坩埚宽度为15~20厘米,在喷涂过程中一般一次喷涂厚度控制在小于0.01mm内,否则在加热过程中易出现龟裂.起泡.针孔等,坩埚喷涂温度在40℃~65℃控制内.喷涂完成后再进行热处理,热处理的目的是提高涂层结晶度,避免内应力引起的涂层脱落,从而提高涂层的韧性和附着力。
      随着科技的不断发展,石墨坩埚制造行业自身能力的不断提高,很多新的技术,好的技术也随之产生,希望我国的坩埚生产业能够有新的技术突破吧!

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